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新聞資訊
NEWS INFORMATION1200℃管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。該款隔熱屏真空熱處理爐各項指標均達到了國際水平，可實現快速升溫和降溫，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。主要運用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負極材料、新能源、磨具等行業，也可用于氣氛環境下的熱處理，也可用于組成CVD系統，進行相關的鍍膜試驗生產。1200℃管式爐產品特點：1、一體化設計，結構緊湊，外形美觀，自帶腳輪，移...
壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。低孔隙度是高質量硬質合金的重要標志，氣體壓力燒結能有效消除硬質合金孔隙度，達到真空、氫氣燒結爐無法達到的效果。隨著經濟的發展，硬質合金生產技術不斷進步，壓力燒結已經成為高質量硬質合金燒結的一種主導技術。在硬質合金生產工藝中，燒結是決定硬質合金結構與性能的關鍵工序。是生產高性能硬質合金的關鍵設備，經壓力燒結的硬質合金制品，具有極優良的組織結構，...
PECVD系統技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態薄膜。在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解物發生化學反應，生成形成膜的初始成分和副反應物，這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態膜的晶核...
連續式回轉爐適用于無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料。回轉窯的主要特點：在熱處理即焙燒過程中，回轉筒體有個小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進料端移動到出料端。窯爐一般都是連續、自動運行的。它們可以直接運輸散裝固體，而不需要進一步的輸送設備，這使得這些窯爐更加節能。由于回轉窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著重要的機械影響，因此必...
相信大多數人都知道，在工業上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規程進行操作。在可能發生危險之前，必須認真分析和研究安全操作規程。沒有多少設備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點，但為了提高生產率，技術熟練的操作者往往也不愿意在整個生產過程中使用所有的安全系統。下面我們一起去看看氣氛管式爐...
PECVD系統主要由真空和壓力控制系統、淀積系統、氣體及流量控制、系統安全保護系統、計算機控制等部分組成。該技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態薄膜。工藝原理：在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解...
滑軌式管式爐是一體化結構設計，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過移動爐體實現快速冷卻的目的。同時也可以預先設定溫度，然后移動到樣品處，達到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用MXG1200開啟式管式爐，爐底安裝有直線滑軌，當生長結束后，左右拉動爐體能夠保證有足夠的空間使實驗樣品移出爐體，實現快速降溫的要求。性能特點：1、工作溫度RT-1000℃；2、日本進口智能程序控溫儀控制精準，可編...
壓力燒結爐采用立式結構由爐體、爐升蓋降機構、真空系統、充氣系統，溫控系統等組成。爐體采用雙層水冷結構，內壁為16MnR壓力容器專用鋼，外層優質碳鋼，中間通水冷卻。爐內發熱元件為石墨管，保溫元件為碳氈及石墨復合結構。爐側裝有一觀察孔、紅外測溫口、熱電偶孔。熱電偶選用鎢錸型，同時具有高溫時自動退出加熱區的功能。適用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具、LED粉體還原與燒結、硬質合金，粉末冶金燒結等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內進行燒結，有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。燒結工藝應用：...
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